氣氛爐的簡介
博納熱雙溫區管式爐的每個溫區可實現單獨控溫,為材料處理提供了靈活的溫度調節空間,主要適用于在真空或保護氣氛環境中,完成多種溫度段下材料的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)工藝,以及碳納米管、硅納米線的制備等精細操作。
除雙溫區型號外,博納熱還提供三溫區、五溫區等多種規格的管式爐,并支持根據客戶具體需求進行定制,是高校、科研院所、工礦企業開展粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理及質量檢測的理想設備。

設備特點
1、高溫選擇
多溫區管式爐能夠滿足不同溫度和場景需求,能在 1600℃內穩定工作,加熱元件則有電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒三種,可根據爐管類型和溫度需求靈活搭配。
2、真空環境
多溫區真空管式爐支持定制不同規格的真空密封法蘭,法蘭上預裝機械壓力表和不銹鋼截止閥,通過精準的真空控制,能夠實現高真空、低真空、無真空等多種實驗與生產環境,滿足材料在不同真空條件下的處理需求,保障實驗數據的準確性和生產的穩定性。

3、通氣系統
針對不同客戶的工藝要求,雙溫區管式爐可設置多個氣氛通氣口,支持通入氮氣、氬氣、二氧化碳、氫氣等多種氣體,既能構建惰性保護氣氛,也能滿足特殊反應氣氛的需求,為材料處理提供多樣化的環境選擇,拓展了設備的應用范圍。
4、智能控制
高溫管式爐的控制系統采用高精度可控硅移相觸發技術,控溫精度可達 ±1℃,確保每個溫區的溫度穩定,操作人員可根據工藝需求預設升溫、保溫、降溫曲線,實現自動化控溫,減少人工干預,提升了工藝的重復性和可靠性。

總結
無論是高校科研中的新材料探索、實驗室的工藝優化,還是企業的小批量生產,這款雙溫區管式爐都能通過精準的溫度控制和環境調節,滿足不同材料的處理需求,博納熱以客戶需求為導向的定制化服務,進一步提升了設備的實用性,隨著材料科學的不斷發展,博納熱多溫區管式爐將繼續為材料研究與產業升級提供穩定可靠的設備支持。
